Samsung berhasil selesaikan pengembangan teknologi semikonduktor 5nm EUV


Samsung Electronics membuat langkah besar dalam node canggih berbasis EUV, termasuk produksi massal 7nm dan 6nm

Samsung Electronics hari ini mengumumkan bahwa teknologi pemrosesan FinFET 5-nanometer (nm) sudah lengkap dalam pengembangannya dan sekarang siap untuk dibuatkan sampel buat pelanggan. Dengan menambahkan node mutakhir ke dalam penawaran pemrosesan berbasis extreme ultraviolet (EUV), Samsung membuktikan sekali lagi kepemimpinannya di pasar pengecoran (foundry) canggih.

Dibandingkan dengan 7nm, teknologi pemrosesan FinFET 5nm milik Samsung memberikan peningkatan efisiensi area logic hingga 25 persen dengan konsumsi daya 20 persen lebih rendah atau kinerja 10 persen lebih tinggi sebagai hasil dari perbaikan pemrosesan yang memungkinkan Samsung untuk memiliki arsitektur sel standar yang lebih inovatif.

Selain peningkatan power performance area (PPA) dari 7nm ke 5nm, pelanggan dapat sepenuhnya memanfaatkan teknologi EUV milik Samsung yang sangat canggih. Seperti pendahulunya, 5nm menggunakan litografi EUV dalam pola lapisan logam dan mengurangi lapisan masker sambil memberikan fidelity yang lebih baik.

Manfaat utama lain dari 5nm adalah dapat menggunakan kembali semua intellectual property (IP) dari 7nm hingga 5nm. Dengan demikian transisi pelanggan dari 7nm ke 5nm akan sangat diuntungkan dari berkurangnya biaya migrasi, ekosistem desain yang telah diverifikasi sebelumnya, dan hasilnya mempersingkat pengembangan produk 5nm mereka.

Sebagai hasil kolaborasi erat antara Samsung Foundry dan mitra 'Samsung Advanced Foundry Ecosystem (SAFE)', infrastruktur desain tangguh untuk 5nm milik Samsung, termasuk alat-alat process design kit (PDK), design methodologies (DM), electronic design automation (EDA), dan IP, telah disediakan sejak kuartal keempat tahun 2018. Selain itu, Samsung Foundry telah mulai menawarkan layanan 5nm Multi Project Wafer (MPW) kepada pelanggan mereka.

"Dalam penyelesaian yang sukses dari pengembangan 5nm kami, kami telah membuktikan kemampuan kami di node berbasis EUV," kata Charlie Bae, Wakil Presiden Eksekutif Foundry Business di Samsung Electronics. "Menanggapi permintaan pelanggan yang meningkat untuk teknologi pemrosesan canggih untuk membedakan produk generasi berikutnya, kami melanjutkan komitmen kami untuk mempercepat volume produksi teknologi berbasis EUV."

Pada Oktober 2018, Samsung mengumumkan kesiapan dan produksi awal pemrosesan 7nm, pemrosesan node pertamanya dengan teknologi litografi EUV. Perusahaan asal Korea ini telah memberikan sampel komersial dari produk-produk baru berbasis EUV pertama di industri dan telah memulai produksi massal pemrosesan 7nm awal tahun ini.

Selain itu, Samsung berkolaborasi dengan pelanggan pada 6nm, pemrosesan node berbasis EUV yang disesuaikan, dan telah menerima tape-out produk dari chip 6nm pertamanya.

Bapak Bae melanjutkan, "Mempertimbangkan berbagai manfaat termasuk PPA dan IP, node canggih Samsung berbasis EUV diharapkan dalam permintaan tinggi untuk aplikasi baru dan inovatif seperti 5G, artificial intelligence (AI), high performance computing (HPC), dan otomotif. Dengan memanfaatkan daya saing teknologi kami yang kuat termasuk kepemimpinan kami dalam litografi EUV, Samsung akan terus memberikan teknologi dan solusi paling canggih kepada pelanggan."


Teknologi pemrosesan berbasis EUV dari Samsung Foundry saat ini sedang diproduksi di lini paabrik S3 di Hwaseong, Korea. Selain itu, Samsung akan memperluas kapasitas EUV-nya ke jalur EUV baru di Hwaseong, yang diharapkan akan selesai pada paruh kedua 2019 dan memulai peningkatan produksi mulai tahun depan.